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绝缘膜制造方法 绝缘膜半导体设计加工技术

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  绝缘膜制造方法 绝缘膜半导体设计加工技术

   资料编号 >> XZL2496(咨询时请提供资料编号)

   一、专利目录(共185项)

   序号 申请号  专利名称 
   1    02122062.X     低介电常数绝缘膜及其形成方法,以及使用它的电路 
   2    02127668.4     栅绝缘膜的形成方法 
   3    01143337.X     制造光敏绝缘膜图案和反射电极及其液晶显示器的方法 
   4    02118438.0     绝缘膜形成材料,绝缘膜,形成绝缘膜的方法及半导体器件 
   5    01808305.6     新的聚硅氧烷聚合物的制备方法,用该方法制备的聚硅氧烷聚合物,热固性树脂组合物,树脂膜,贴有绝缘材料的...... 
   6    02141093.3     低介电常数绝缘膜用组合物、绝缘膜形成方法及电子零件 
   7    02139983.2     绝缘膜刻蚀装置 
   8    03102980.9     绝缘膜的制造装置 
   9    03104310.0     含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置 
   10    03101853.X     将电荷俘获在绝缘膜内非易失性地存储信息的存储器 
   11    03128623.2     低介电常数绝缘膜形成用材料、低介电常数绝缘膜、低介电常数绝缘膜的形成方法及半导体器件 
   12    02800123.0     电池以及引线绝缘膜 
   13    02800261.X     绝缘膜的形成方法和半导体装置的制造方法 
   14    03120678.6     一种制备绝缘膜和显示器的射线敏感组合物 
   15    03107647.5     含低介电常数绝缘膜的半导体装置的制造方法 
   16    01815916.8     绝缘膜用材料,绝缘膜用罩光清漆,以及绝缘膜和采用该膜或该清漆的半导体装置 
   17    01816115.4     耐热性树脂的预聚体,耐热性树脂,绝缘膜和半导体装置 
   18    02801827.3     有机硅酸酯聚合物和从其得到的绝缘膜 
   19    92112536.4     半导体装置的层间绝缘膜的形成方法 
   20    94192429.7     评价用于形成绝缘膜的硅氧烷的方法、形成绝缘膜的涂布液及其制备、半导体器件用绝缘膜成型方法以及采用绝缘...... 
   21    97111872.8     形成半导体器件的层间绝缘膜的方法 
   22    97120672.4     包括绝缘膜的半导体器件及其制造方法 
   23    97125733.7     场绝缘膜上表面平坦的半导体器件及其方法 
   24    98100792.9     一种层间绝缘膜受到保护的半导体器件和制作方法 
   25    98115053.5     具有金属-绝缘膜-半导体三层结构的晶体管的制造方法 
   26    99102154.1     用于半导体装置中的绝缘膜和半导体装置 
   27    98124903.5     通过电子束辐射制作绝缘膜线路图形的方法 
   28    99100191.5     具有低介电常数绝缘膜的半导体器件及其制造方法 
   29    98115627.4     用牺牲可流动氧化物双嵌埋形成多共面金属/绝缘膜的方法 
   30    98103102.1     介电常数降低的改进二氧化硅绝缘膜及其形成方法 
   31    00113282.2     金属高温绝缘膜 
   32    00109099.2     具有元件分离绝缘膜的半导体装置的制造方法 
   33    98117686.0     形状记忆合金表面原位制备绝缘膜 
   34    98125578.7     非取向型电磁钢板、其制备方法及所用绝缘膜形成剂 
   35    00122716.5     具有含氮栅绝缘膜的半导体器件及其制造方法 
   36    99812748.5     改进了高温下收缩性的双轴取向绝缘膜 
   37    00807715.0     用于形成绝缘膜的涂料组合物,用此涂料组合物涂覆的未取向电工钢板,以及在该钢板上形成该绝缘膜的方法 
   38    01138447.6     绝缘膜形成用涂料及用该涂料的等离子显示板的制造方法 
   39    01142999.2     用于透明绝缘膜的糊料和其制造方法、等离子显示板和其制造方法 
   40    02108730.X     绝缘膜的形成方法及半导体器件的制造方法 
   41    200680010595.2     绝缘膜的制造方法和半导体装置的制造方法 
   42    200610172859.6     放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜的形成 
   43    200680011056.0     基板的氮化处理方法和绝缘膜的形成方法 
   44    200710166567.6     用于形成有机绝缘膜的光敏树脂组合物和使用该组合物的设备 
   45    200610165061.9     一种电工绝缘膜聚酯切片的制备方法 
   46    200610161738.1     射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法 
   47    200710300668.8     光敏树脂组合物及由其制备的有机绝缘膜 
   48    200810003519.X     放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及微透镜以及它们的制备方法 
   49    200710307391.1     绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法 
   50    200680022317.9     层间绝缘膜、布线结构以及它们的制造方法 
   51    92242887.5     绝缘膜组合式高聚物压电传感器 
   52    02821471.4     薄膜电容元件用组合物、高电容率绝缘膜、薄膜电容元件和薄膜叠层电容器 
   53    02821456.0     薄膜电容元件用组合物、高电容率绝缘膜、薄膜电容元件和薄膜叠层电容器 
   54    200410061735.1     硅氧烷基树脂及用其制造的半导体的层间绝缘膜 
   55    200410069858.X     包含锗的硅氧烷基树脂和使用该树脂的半导体器件用间层绝缘膜 
   56    200410047406.1     硅氧烷基的树脂和使用其制造的半导体器件的层间绝缘膜 
   57    200410057191.1     在绝缘膜上形成凹状图形的半导体装置及其制造方法 
   58    200410074886.0     新颖的硅氧烷基树脂和使用该树脂形成的间层绝缘膜 
   59    02825548.8     带有不同硅厚度的绝缘膜上硅装置 
   60    200410069268.7     绝缘膜上硅(SOI)晶片上接触区的制造方法 
   61    200410080998.7     半导体装置的绝缘膜形成方法及半导体装置 
   62    03802592.2     基底绝缘膜的形成方法 
   63    200410086722.X     绝缘膜成膜用原料及使用该原料的成膜方法 
   64    200410090025.1     多官能环状硅酸盐(或酯)化合物,由该化合物制得的基于硅氧烷的聚合物和使用该聚合物制备绝缘膜的方法 
   65    200410086663.6     光敏性聚酰亚胺树脂组合物、使用该组合物的绝缘膜、其制造方法及使用绝缘膜的电子器件 
   66    200410104827.3     具有改善的机械特性的绝缘膜合成物 
   67    03808476.7     清漆、成型物、电绝缘膜、层压物、阻燃剂淤浆以及阻燃剂粒子和清漆的制造方法 
   68    200410081695.7     有机无机混合绝缘膜的形成方法 
   69    03814811.0     有机硅酸盐聚合体和含有该有机硅酸盐聚合体的绝缘膜 
   70    03816208.3     在基板上形成绝缘膜的方法、半导体装置的制造方法和基板处理装置 
   71    03817037.X     用于夹层绝缘膜的光敏组合物及形成带图形夹层绝缘膜的方法 
   72    200510059146.4     绝缘膜成形方法、绝缘膜成形装置和等离子体膜成形装置 
   73    03821131.9     半导体集成电路用绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法 
   74    03822058.X     形成半导体基体上的绝缘膜的方法 
   75    02130565.X     在涂覆形成的夹层绝缘膜上具有透明导电膜的液晶显示器 
   76    03148937.0     层间绝缘膜及其形成方法以及聚合物组合物 
   77    03152470.2     辐射敏感树脂组合物,形成有图案绝缘膜的形成方法,装配有该膜的有源矩阵板和平板显示设备,和生产平板显示...... 
   78    01820351.5     绝缘膜的蚀刻方法 
   79    03155368.0     具有不同厚度栅极绝缘膜的半导体器件的制造方法 
   80    03133156.4     在硅基底中形成绝缘膜的方法 
   81    200310114943.9     多孔膜形成用组合物、多孔膜及其制造方法、层间绝缘膜和半导体装置 
   82    200310114329.2     印刷电路板、半导体封装、基底绝缘膜以及互连衬底的制造方法 
   83    02809631.2     含高介电常数绝缘膜的半导体设备和该设备的制造方法 
   84    02810753.5     沉积方法、沉积设备、绝缘膜及半导体集成电路 
   85    03800393.7     高分子材料的合成方法、高分子薄膜的形成方法以及层间绝缘膜的形成方法 
   86    200310114941.X     沸石溶胶及其制法、多孔膜形成用组合物、多孔膜及其制法、层间绝缘膜和半导体装置 
   87    200410001855.2     有机绝缘膜、其制造方法、使用该有机绝缘膜的半导体器件及其制造方法 
   88    02805783.X     绝缘膜氮化方法、半导体装置及其制造方法、基板处理装置和基板处理方法 
   89    200310124259.9     非取向型电磁钢板的制备方法及所用的绝缘膜形成剂 
   90    200410028268.2     形成多孔膜的组合物、多孔膜及其形成方法、层间绝缘膜和半导体器件 
   91    200410029406.9     耐热绝缘膜和绝缘方法 
   92    02806160.8     有机绝缘膜的蚀刻方法和双波纹处理方法 
   93    200410031387.3     多孔膜形成用组合物,多孔膜的制备方法,多孔膜、层间绝缘膜和半导体器件 
   94    200410033575.X     多孔膜形成用组合物、多孔膜制造法、多孔膜、层间绝缘膜及半导体装置 
   95    200410031386.9     形成多孔膜的组合物,多孔膜和其制备方法,层间绝缘膜和半导体器件 
   96    200410047203.2     形成绝缘性能改进的绝缘膜的方法 
   97    200480017231.8     在绝缘膜上设置开口部的分析用具 
   98    200580000583.7     栅极绝缘膜的形成方法、存储介质、计算机程序 
   99    03812483.1     绝缘膜的形成方法 
   100    03802282.6     形成含硅绝缘膜的CVD方法和装置 
   101    200510071269.X     TFT-LCD用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法 
   102    200510066789.1     检测绝缘膜的方法和装置,对其打孔的装置及控制方法 
   103    200480000330.5     生产绝缘膜的涂料组合物、使用该涂料组合物制备绝缘膜的方法、由其得到的用于半导体器件的绝缘膜及含有该绝...... 
   104    200510083614.1     在涂覆形成的夹层绝缘膜上具有透明导电膜的液晶显示器 
   105    200380104449.2     含有有机硅烷、有机硅氧烷化合物形成的绝缘膜用材料、其制造方法和半导体器件 
   106    200510098086.7     形成有机绝缘膜的组合物及用其形成有机绝缘膜图案的方法 
   107    200480002533.8     薄膜电容元件用组合物、高介电常数绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜积层电容器及薄膜电容元件的制造方法 
   108    200510105516.3     形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物和层间绝缘膜 
   109    200480006418.8     有机硅氧烷树脂以及使用该有机硅氧烷树脂的绝缘膜 
   110    200480007724.3     薄膜电容元件用组合物、高介电常数绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜积层电容器及薄膜电容元件的制造方法 
   111    200380110280.1     薄膜电容元件用组合物、高介电常数的绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜积层电容器、电路和电子仪器 
   112    200510113698.9     电容绝缘膜及其制造方法、电容元件及其制造方法和半导体存储装置及其制造方法 
   113    200480011316.5     高介电常数绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜叠层电容器及薄膜电容元件的制造方法 
   114    200510128690.X     含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置 
   115    200510129035.6     绝缘膜以及半导体器件的制造方法 
   116    200510128689.7     含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置 
   117    200610059663.6     具有栅极绝缘膜的半导体装置及其制造方法 
   118    200480023656.X     低介电常数绝缘膜的制造 
   119    200480030531.X     含有电路元件和绝缘膜的半导体模块及其制造方法以及其应用 
   120    200480030737.2     绝缘膜的形成方法及其形成系统、半导体装置的制造方法 
   121    200580001422.X     辐射敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制备方法 
   122    200610099835.2     具有铁电膜作为栅极绝缘膜的半导体器件及其制造方法 
   123    200610108370.2     形成含硅的绝缘膜的方法和装置 
   124    200580001499.7     用于介电绝缘膜的涂料组合物以及由其制备的介电绝缘膜和包括该绝缘膜的电气或电子装置 
   125    200480015099.7     绝缘膜的改性方法 
   126    200610099383.8     电解电容器铝壳体绝缘膜的涂覆方法 
   127    200610142136.1     放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及微透镜的形成 
   128    200580014628.6     绝缘膜形成用组合物和其制法及二氧化硅系绝缘膜和其形成法 
   129    200580015922.9     正型感光树脂组合物以及由其获得的层间绝缘膜和微透镜 
   130    200610162324.0     基底绝缘膜的形成方法 
   131    200510124039.5     采用阳极处理工艺使电解电容器铝壳体披覆绝缘膜的方法 
   132    200610160562.8     薄膜电容元件用组合物、绝缘膜、薄膜电容元件和电容器 
   133    200580023318.0     评价用于半导体装置的绝缘膜的特性的方法以及形成该绝缘膜的方法 
   134    200610063978.8     有机绝缘体组合物、有机绝缘膜、有机薄膜晶体管和电子设备以及形成这些产品的方法 
   135    200610106004.3     形成绝缘膜的组合物以及制造半导体器件的方法 
   136    200580036456.2     绝缘膜形成方法及基板处理方法 
   137    200580036152.6     栅极绝缘膜的形成方法、半导体装置和计算机记录介质 
   138    200710005505.7     用于半导体器件的绝缘膜沉积方法 
   139    200580042404.6     绝缘膜半导体装置及方法 
   140    200610092792.5     绝缘膜用接着剂的主剂 
   141    200580045961.3     含硅感光性组合物、使用该组合物的薄膜图案的制造方法、电子机器用保护膜、栅极绝缘膜和薄膜晶体管 
   142    200680002010.2     固化性树脂组合物和层间绝缘膜 
   143    200610029070.5     掺氟氧化硅玻璃层间绝缘膜的集成方法 
   144    200710140222.3     层间绝缘膜用感光性树脂组合物及层间绝缘膜的形成方法 
   145    200680006129.7     用于压电式作用力或压力传感器的、通过电绝缘膜固定在一起的部件 
   146    200710142216.1     形成绝缘膜的方法 
   147    200710141756.8     绝缘膜、半导体器件及其制造方法 
   148    200710142367.7     形成绝缘膜的方法和制造半导体器件的方法 
   149    200810082145.5     放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜、以及它们的制备方法 
   150    200810081085.5     绝缘膜的制造方法及半导体器件的制造方法 
   151    200810080697.2     绝缘膜 
   152    200810081281.2     绝缘膜材料、多层互连结构及其制造方法和半导体器件的制造方法 
   153    200810083464.8     贮存用于形成半导体器件用夹层绝缘膜的涂布溶液的方法 
   154    200810099074.X     放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法 
   155    200810109584.0     氧化硅膜、其制备方法以及具有使用其的栅极绝缘膜的半导体器件 
   156    200810125444.2     感放射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜及其形成方法 
   157    200810133516.8     透明绝缘膜及其制造方法、以及溅射靶 
   158    200810130172.5     放射线敏感性树脂组合物、以及层间绝缘膜和微透镜及它们的制备方法 
   159    200810120979.0     用于微型麦克风的组合绝缘膜环及其制作方法 
   160    200780003934.9     绝缘膜研磨用CMP研磨剂、研磨方法、通过该研磨方法研磨的半导体电子部件 
   161    200710045573.6     LCD基板盖板绝缘膜片V-com过孔结构 
   162    200810215525.1     用于形成半导体器件中的层间绝缘膜的方法 
   163    200680053309.0     有源矩阵基板、显示装置、电视接收机、有源矩阵基板的制造方法、栅极绝缘膜形成方法 
   164    200710184963.1     含有有机硅烷、有机硅氧烷化合物形成的绝缘膜用材料、其制造方法和半导体器件 
   165    200680054650.8     具有低介电性绝缘膜的半导体器件及其制造方法 
   166    200780018998.6     层间绝缘膜的干式蚀刻方法 
   167    200780019921.0     绝缘膜的形成方法和半导体装置的制造方法 
   168    200780024417.X     电绝缘膜 
   169    200780027766.7     多孔质绝缘膜的形成方法 
   170    200910126757.4     薄膜形成方法和用于形成含硅绝缘膜的装置 
   171    200910006641.7     绝缘膜的评价方法及测量电路 
   172    200910007638.7     感射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法 
   173    200780035915.4     用于形成具有优良耐腐蚀性以及膜紧密粘合性和膜强度的绝缘膜的不含铬的涂层溶液以及一种使用其在无取向电工...... 
   174    200780035435.8     放射线敏感性组合物、二氧化硅系覆膜的形成方法、二氧化硅系覆膜、具有二氧化硅系覆膜的装置和部件以及绝缘...... 
   175    200780030018.4     膜形成用材料、以及含硅绝缘膜及其形成方法 
   176    200780039214.8     感光性树脂组合物、绝缘膜、保护膜以及电子设备 
   177    200910127063.2     感射线性树脂组合物以及层间绝缘膜和微透镜的制造方法 
   178    200780041626.5     硅点形成方法及装置以及带硅点和绝缘膜的基板的形成方法及装置 
   179    200910130094.3     形成掺杂有金属的含硅绝缘膜的成膜方法和装置 
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